Nilai sasaran kelembapan relatif dalam bilik bersih semikonduktor (FAB).

Nilai sasaran kelembapan relatif dalam bilik bersih semikonduktor (FAB) adalah kira-kira 30 hingga 50%, membenarkan margin ralat yang sempit sebanyak ±1%, seperti dalam zon litografi – atau kurang dalam pemprosesan ultraungu jauh (DUV) zon – manakala di tempat lain ia boleh dilonggarkan kepada ±5%.
Kerana kelembapan relatif mempunyai pelbagai faktor yang boleh mengurangkan prestasi keseluruhan bilik bersih, termasuk:
1. Pertumbuhan bakteria;
2. Julat keselesaan suhu bilik untuk kakitangan;
3. Caj elektrostatik muncul;
4. kakisan logam;
5. Pemeluwapan wap air;
6. Kemerosotan litografi;
7. Penyerapan air.

Bakteria dan bahan cemar biologi lain (kulat, virus, kulat, hama) boleh hidup subur dalam persekitaran dengan kelembapan relatif lebih daripada 60%. Sesetengah komuniti bakteria boleh tumbuh pada kelembapan relatif lebih daripada 30%. Syarikat itu percaya bahawa kelembapan harus dikawal dalam julat 40% hingga 60%, yang boleh meminimumkan kesan bakteria dan jangkitan pernafasan.

Kelembapan relatif dalam julat 40% hingga 60% juga merupakan julat sederhana untuk keselesaan manusia. Kelembapan yang terlalu banyak boleh menyebabkan orang berasa sesak, manakala kelembapan di bawah 30% boleh menyebabkan orang berasa kering, kulit merekah, ketidakselesaan pernafasan dan ketidakbahagiaan emosi.

Kelembapan yang tinggi sebenarnya mengurangkan pengumpulan cas elektrostatik pada permukaan bilik bersih - hasil yang diinginkan. Kelembapan rendah sesuai untuk pengumpulan cas dan sumber nyahcas elektrostatik yang berpotensi merosakkan. Apabila kelembapan relatif melebihi 50%, cas elektrostatik mula hilang dengan cepat, tetapi apabila kelembapan relatif kurang daripada 30%, ia boleh bertahan lama pada penebat atau permukaan yang tidak dibumikan.

Kelembapan relatif antara 35% dan 40% boleh digunakan sebagai kompromi yang memuaskan, dan bilik bersih semikonduktor biasanya menggunakan kawalan tambahan untuk mengehadkan pengumpulan cas elektrostatik.

Kelajuan banyak tindak balas kimia, termasuk proses kakisan, akan meningkat dengan peningkatan kelembapan relatif. Semua permukaan yang terdedah kepada udara di sekeliling bilik bersih adalah pantas.